led胶印固化设备设备厂家讲述光固化市场应用技术要求

时间 :2020-01-04 作者 : 浏览 : 分类 :行业动态
波长要求:高功率LED封装,需混合不同波长的UV-A LED (三六五nm / 三八五nm / 三九五nm / 四零五nm / 四三零nm),面光源模块设计以达到均匀光。若一个LED光源不亮,将导致固化效果失败,这也是光源模块产品面临到最大的挑战之一。若需减少客制化大尺寸光源模块,可采用好几片小片的单片光源模块拼接,无缝隙拼接则为是相当主要技术。

1.波长要求:高功率LED封装,需混合不同波长的UV-A LED (三六五nm / 三八五nm / 三九五nm / 四零五nm / 四三零nm),面光源模块设计以达到均匀光。若一个LED光源不亮,将导致固化效果失败,这也是光源模块产品面临到最大的挑战之一。若需减少客制化大尺寸光源模块,可采用好几片小片的单片光源模块拼接,无缝隙拼接则为是相当主要技术。

  2.光学设计:依产品对于均匀性或是照射工作距离要求,发光角度小于六十度

  3.光强度:取决于工作距离 (mm-一百五十mm),采用辐射照度 (W/cm2)计算,介于 W-二十W/cm2。

  4.光均匀性:至少须达八十五%以上的均匀性。

  5.冷却系统:依设备环境需求,采用水冷式或是气冷式。从冷却系统成本来看,LED 气冷式冷却系统较LED 水冷式冷却系统来的低,然而易积灰尘、噪音;水冷式冷却系统虽然可使用瓦数较高,但不可应用在无尘室之中。

  UV LED应用于曝光机一直有相当的难度,主要因为 UV LED的光学设计不容易达到平行光。汞灯光线有办法透过玻璃管绕行,转为平行光,LED光线绕行就会持续减少亮度,造成不必要的损失。

  1.光学设计:依产品对于均匀性或是平行光的要求,发光角度介于一至六度

  2.光强度:取决于工作距离 (五十mm-一百五十mm),采用辐射照度 (W/cm2)计算,介于一百mW-1W/cm2。

  3.光均匀性:至少须达百分之八十五以上的均匀性。

  云硕灯业推出的 UV LED光学设计,利用特殊二次光学设计,目前也可达到小于2度的平行光,更具均匀性的光学设计,相当适合应用于PCB / LCD / IC曝光机。

以上种种光固化市场技术要求,都需要来回与客户紧密讨论,就算是同一种机台,也需要视客户环境而调整,是高度客制化的市场。

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